技术编号：19487328
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用以将膜材料与载气（carriergas）一同向基材喷射来在该基材上成膜的、喷雾器喷嘴、成膜装置以及成膜方法。背景技术近年，在电子工学领域，电子部件及电路的小型化、轻量化正不断发展。随之而来的是微小区域的表面处理（表面改性）以及微小区域上的电极形成等这些需求也不断增加。为了满足这样的需求，利用喷涂法来成膜的方法在近年受到了关注。例如，作为喷涂法之一，有包括以下步骤的的冷喷涂法：（1）将温度低于膜材料的熔点或软化温度的载气加速成高速射流；（2）向该载气射流中投入膜材料来加速该膜材料；（3...
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