技术编号：19635654
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。相关申请的交叉引用本申请要求于2017年5月19日提交的欧洲申请17171935.4的优先权，该欧洲申请通过引用全文并入本文。本发明涉及用于测量在衬底上形成的目标的方法和设备、一种光刻单元和一种目标。背景技术光刻设备是一种将所期望的图案施加到衬底(通常是在衬底的目标部分)上的机器。光刻设备可以例如用于集成电路(ic)的制造中。在这种情况下，可以将可替代地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成要在ic的单层上形成的电路图案。可以将该图案转印到衬底(例如硅晶片)上的目标部分(例如包括管芯的一部分、一...
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