技术编号：19638034
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种过氧化氢水溶液之处理方法；特别是指一种高浓度过氧化氢水溶液之处理方法。背景技术目前一般在电子业的半导体制程中，过氧化氢(h2o2)为一种常用的化学品。因此在半导体制程中所产生的废水，占有一定比例是高浓度的过氧化氢水溶液，部份过氧化氢水溶液浓度更高达10％以上。由于高浓度过氧化氢水溶液具有较强的反应性及腐蚀性，必须有效降低过氧化氢水溶液浓度，以利于后续储存及其他附属物质回收再利用。上述化学式中，其反应热可达到98kj/mole，由于会放热衍生高温及产生氧气的特性，因此目前业界无法有效...
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