技术编号：19647625
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于曝光设备技术领域，尤其涉及一种升降承载装置及曝光机。背景技术曝光设备的曝光原理是利用曝光件并通过光照对待曝光产品进行曝光成像。在曝光设备内，通常都安装有用于承托曝光件的架体和用于承托待曝光产品的架体。待曝光产品在曝光成像过程中，其常常需要调整两架体的相对距离以实现待曝光产品和曝光件之间的准确对焦。然而，由于两架体是独立设置于曝光设备内，故在彼此相对运动过程中，容易出现位置偏差，进而会导致待曝光产品和曝光件之间无法实现准确对焦。实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种升降承载装置及曝...
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