技术编号：1981052
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及，更详细而言，本发明涉及适合作为半导体和液晶显示器等的制造工艺中使用的蚀刻装置、溅射装置、CVD装置等真空处理装置的构成构件使用的、对卤素类腐蚀性气体和它们的等离子体的耐腐蚀性和导热性优良并且导电性也优良的。另外，本发明涉及高频透射材料，更详细而言，本发明涉及适合用于半导体装置等的制造工艺中使用的利用高频的等离子体处理装置等的、伴随对试样施加高频而产生的等离子体的稳定性优良的高频透射材料。另外，本发明涉及，更详细而言，本发明涉及对卤素类腐蚀性气体...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。