技术编号：19985525
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及曝光机领域，尤其涉及一种自带清洁装置的曝光机。背景技术传统的曝光机多半是分上下两个框交替循环运作，而每个框又有上下玻璃面夹合线路板在中间运作，常规情况半自动底片曝光机要求都是每生产一片板则清洁一次底片，而全自动底片曝光机则也是根据设定参数到达后通过员工手动清洁底片，而底片面幅宽基准一般都有650mm以上，而清洁滚宽度标配都以300mm为主，所以需求来回两个或更多的循环才能覆盖整个底片有效区域；以上清洁方式既降低设备应有生产效率，也避免不了员工不清洁或清洁不到位而无法确保品质。发明内...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。