技术编号：20002871
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显示技术领域，尤其是涉及一种蚀刻液喷射速度获取系统及方法。背景技术在显示面板制备过程中，需要使用蚀刻液对膜层(如铜层等金属膜层)进行刻蚀，以形成所需要的图案，例如源极、漏极等。不同规格的蚀刻液(例如不同浓度的蚀刻液、不同厂家的蚀刻液等)对膜层的刻蚀速率不同，这就导致相同的环境条件以及喷射速度下，不同规格的蚀刻液对膜层的刻蚀结果不同(体现为蚀刻参数不同)。每种规格的显示面板都需要一个较佳的蚀刻参数，为了得到这个蚀刻参数，现有技术需要在显示面板制造线上，使用蚀刻液按照不同喷射速度进行刻蚀测...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。