技术编号：20097656
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及光谱仪，特别涉及一种半潜式真空室入射透镜清洗装置。背景技术光谱仪真空室透镜距离样品台较近，样品激发时产生的蒸发气体会污染入射透镜，致使光谱仪的测量精度显著下降。由于入射透镜处的作用主要是把真空环境和大气环境分隔开，已有的镜片保护方式为吹氩气保护，但这种方式长时间使用依然会污染镜片，清洗时需要破坏真空环境。本实用新型可以在不破坏真空环境的情况下方便快捷清洗镜片。发明内容有鉴于此，本实用新型的目的是提供一种半潜式真空室入射透镜清洗装置，可实现不破坏真空环境就能方便快捷清洗镜片。本实用新...
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