技术编号:20178979
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请涉及纳米材料领域,尤其涉及一种纯化纳米晶溶液的装置。背景技术基于湿化学法合成的纳米晶的溶液里普遍存在的一个问题是,合成时使用的过量的原材料、小分子配体等会成为杂质而残留。这类杂质会影响纳米晶表面的电荷分布以及活性位点等,从而需要纯化才能作后续使用。现有常见技术中,在纯化较小规模的纳米晶溶液时,一般在沉淀纳米晶后,采用离心管离心除去含有杂质溶液,该方法在纳米晶的大规模制备中存在较多缺陷。实用新型内容本申请的目的在于提供一种纯化纳米晶溶液的装置,以便适用于大规模纳米晶的纯化。根据本申请的一个方...
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