技术编号:20268204
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及技术磁粉钝化领域,具体领域为一种磁粉真空绝缘钝化工艺。背景技术随着电子技术的提高,对磁性器件的要求也越来越高,主要往小型化、高频化的方向发展,这无疑需要对磁损耗和温升性能都提出更高的要求。为了优化铁硅铝粉末的性能,市场上逐步以气雾化方式替代传统的破碎方式来制备铁硅铝粉末。气雾化制粉的优势在于除去了由破碎、球磨等整形工艺带来的应力、降低了氧含量,因此,气雾化铁硅铝无论是铁损耗还是直流偏置能力都比破碎铁硅铝具有明显优势。目前市场上气雾化铁硅铝粉末质量参差不齐,而损耗更低、直流偏置能力更高的...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。