技术编号:20424160
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种镀膜机,特别是涉及一种通过平移式靶门隔离靶体的镀膜机。背景技术现有广泛用于生产的磁控溅射镀膜机中所用的溅射靶体或整体装于炉内、或整体装于炉壁上(下壁、侧壁或上壁),靶体上的靶材表面都朝向炉内被镀工件,镀膜前炉腔抽真空并启动加热,下一步充入氩气,在工件与炉壁(接地)施加较高电压,使炉内氩气辉光放电产生氩等离子体,对工件表面进行氩离子轰击清洗,然后进入镀膜作业:启动阴极磁控溅射靶电源,产生靶材溅射,溅出靶材物料,在工件上施加负偏压,把溅射出的靶材粒子吸拉到工件表面沉积成膜层。由于在...
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