技术编号:20499425
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种对基板进行热处理的装置及对该装置的加热板进行冷却的方法。背景技术为了制造半导体元件,执行如清洗、沉积、光刻、蚀刻以及离子注入等的多种工艺。这种工艺中的光刻工艺包含有在基板上形成如感光液的液膜的工艺。在基板上形成液膜之后,进行通过加热基板而去除液膜上的有机物以使液膜稳定化的烘烤工艺。烘烤工艺包含有在加热板上放置基板并将基板加热至与常温相比非常高的温度的工艺。这种加热工艺需要周期性地确认因高温导致的热变形及损伤等并进行维护。因此,在结束关于规定张数的基板的烘烤工艺或达到规定周期的情况下...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。