技术编号：2050721
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明是关于，用在离子注入机的机房门控制中，特别涉及半导体制造离子注入工艺中所用的离子注入机，属于半导体器件制造领域。背景技术离子注入机是由离子光学系统、真空系统、电气系统、控制系统、水气等辅助系统构成。是一种综合性较高的大型设备。设备的头部是在高压下工作，需要将它与外界隔开。 所以把它们放在一个机房的里，四周由十个门组成，这样就避免了高压暴露在外，倍压筒盖闭合时，高压仓就加上了高压。门联锁控制的方法是来控制开门和锁门，门联锁与倍压筒盖并联一起受控。这样就...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。