技术编号:20617595
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种活化方法,尤其涉及一种用于硅片的中、精抛布的活化方法。背景技术硅片生产过程中,抛光工艺是十分重要的处理工艺。通常生产中,抛光工艺主要采用抛光布抛光。抛光布在抛光过程中扮演着多重角色,除了用以协助抛光液的有效均匀分布外,也要能够提供新补充进来的抛光液,并顺利将反应后的抛光液与反应产物排除。鉴于中、精抛布的特殊结构,其活化就显得尤为重要。现有技术中,如果中、精抛布活化不充分,抛光面会有抛光雾的风险,影响产品良率;现有技术中,通常用dummy片进行活化,时间长,成本高,不利于降低生产成本...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。