技术编号:20640238
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及尾气处理技术领域,尤其涉及一种滤芯清理装置。背景技术镀膜是半导体领域的最重要的工艺,采用特种气体在mocvd设备或者pecvd设备等反应形成特殊需求的半导体膜层或者pn结等。随着半导体产业的发展,特种气体需求量越来越大,特别是砷烷、磷烷、硅烷、乙硅烷等等,这些气体在半导体生产方面起着至关重要的作用,但是这些特殊气体在生产时,利用率一般并不高,比如说砷烷一般利用率为7%~15%,磷烷一般利用率不超过20%等等,大部分工艺气体及反应物等都进入尾气处理系统。这些特种气体及其反应物的尾气处...
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