技术编号:20693185
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及半导体装备制造领域,特别涉及一种离子注入机控制离子束减速、偏转和聚焦的方法。背景技术离子束注入机在半导体器件制造中广泛使用以选择性更改材料的导电性。在典型的离子注入机中,自离子源产生的离子被引导穿过一系列束线组件,其可包含一个或多个分析磁铁以及多个电机,以调节离子束使其具有合适的能量和形状。在低能大束流离子注入机中,存在一种独立控制离子减速、偏转和聚焦的器件,其包括分列于离子束两侧的多组电极对,通过对不同电极所加电压的控制,来调节贯穿透镜的电压,以维持离子束的弧形运动,达到控制离子束减...
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