技术编号：20700612
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及蒸镀装置领域，特别涉及一种利用差分抽气系统实现超高真空蒸镀的装置。背景技术真空蒸镀是指在真空条件下，利用加热蒸发物料，使物料粒子在基底上沉积成膜的技术。其中分子束外延法是在超高真空条件下，将物料元素的分子束流直接喷到衬底表面，从而在其上形成外延层，能生长极薄的单晶薄膜，且能精准控制膜厚。真空度是超高真空镀膜系统的重要指标，真空不仅可为薄膜生长提供超洁净环境，还可提高分子运动自由程，实现高质量镀膜。因此真空度是镀膜系统的重要指标之一。在传统的蒸镀系统中，在加热膜材料使之汽化产生原子束或分...
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