技术编号：20862991
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及数控真空镀膜技术领域，具体为一种多弧离子数控真空镀膜机。背景技术镀膜机是一种辅助人们进行真空镀膜的支撑设备，以动量传递的方法，用荷能粒子双击材料表而，使其表面原子获得足够的能量而飞逸出来的过程称为溅射，磁控溅射是种高溅射速率、低基片加热的溅射技术，称为高速低温溅射技术，离子镀膜技术简称离子镀，离子镀是在真空条件下，利用气体放电使被蒸发物质部分电离，在气体离了或被蒸发物质离子轰击作用的同时把蒸发物质或其反应产物沉积在基片上，随着科技的不断发展，人们对于镀膜机的制造工艺要求也越来越高。...
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