技术编号：21037446
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及光伏产业电池制造技术领域，尤其涉及一种电池片湿法刻蚀水膜产生装置。背景技术太阳能电池作为绿色、环保的新能源受到全世界的广泛关注。全球光伏产业发展非常迅速，国内的光伏产业不断发展壮大。目前晶体硅太阳能电池片的主要生产流程为，制绒，扩散，湿法刻蚀，镀膜，印刷，测试。目前的湿法刻蚀工艺，主要是在硅片上覆盖一层保护正面扩散层的水膜，然后经过混酸溶液进行边缘和背面腐蚀，以达到刻蚀目的。然而，生产过程中由于受到扩散后硅片表面状态差异、机台抽风的稳定性、液体循环流量稳定性和腐蚀液液位稳定性等影响...
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