技术编号：21162779
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体制备领域，尤其涉及一种传样夹具，用于加工过程中样品的传送。背景技术微纳加工和制备过程中，具有超高的真空度（≥10-10torr）真空的设备，与大气环境相比，具有较低的氧气和水分以及其他粉尘颗粒等污染物含量，并且以其稳定的密封性和良好的高真空环境为样品的制备，储存，工艺操作提供良好的洁净条件，防止样品的污染。因此保证真空设备的密封环境和洁净度是在微纳加工中防止污染的根本所在，然而在使用超高真空设备进行微纳加工过程中，能够引起设备真空污染的因素有很多，其中主要的是传样过程引起的污...
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