技术编号：21190950
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及功能薄膜技术领域，具体涉及一种铁电薄膜表面功函数的测定方法。背景技术在工程技术和科学研究领域，研究人员迫切地想知道薄膜表面的缺陷浓度及费米能级状态，然而苦于没有方法去获得，只能花费大量时间去做微观检测。现有技术中，通常采用以下两种方法进行检测：一种方法是利用开尔文探测和开尔文探测力显微镜来进行测量；另一种方法是基于光发射的原理，通过紫外(uv)光去激发相应的固体样品表面，使得固体表面的电子受到激发，通过测量发射电子的能量谱来分析样品的态密度、占据态及功函数等信息。然而，上述方法均是对微...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。