技术编号：21885349
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及光刻技术领域，尤其是涉及一种基于双向扫描的拼接错位补偿方法和无掩膜光刻设备。背景技术无掩膜光刻是利用空间光调制器将曝光图像转移到感光材料上成像的技术。扫描式曝光时采用平台匀速运动并以一定的扫描步长刷新图形的方式实现条带扫描曝光，在扫描过程中，扫描方式可以分为单向扫描和双向扫描，双向扫描平台是按照蛇形方式运动，由于其具有较高的产能，以成为主流形式。但是，在双向扫描过程中，由于曝光出图存在延时，造成拼接处扫描方向错位，影响曝光图形解析，特别是对于横线解析。发明内容本发明旨在至少解决现有技术...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。