技术编号：22096660
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体技术领域，具体来说，涉及一种光刻机台。背景技术光刻机是半导体产业中最关键设备，集成电路里的晶体管是通过光刻工艺在晶圆上做出来的，主要通过曝光显影技术将光透过掩膜版，通过曝光显影技术将光掩模上的图案以一定的比例转移到半导体硅片表面的光致抗蚀剂层上，硅片在光刻机台上光致抗蚀剂会先进行预烘烤，当温度比较高的时候，光致抗蚀剂由原来的液态变为固态，烘烤后的硅片在进行曝光前需要冷却至室温，因此硅片在进入曝光区进行曝光前需在光刻机台中等待一段时间，无法稳定机台内部曝光的温度，使得产品光刻精...
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