技术编号：22242570
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。相关申请的交叉引用本申请要求2018年1月31日提交的欧洲专利申请18154475.0的优先权，该欧洲专利申请的全部内容通过引用并入本文中。本发明涉及一种用于相位步进测量系统的二维衍射光栅以及用于设计这种二维衍射光栅的方法，该相位步进测量系统用于确定投影系统的像差映射。特别地，本发明涉及一种用于剪切相位步进干涉测量系统的二维衍射光栅。背景技术光刻设备是一种被构造成将期望的图案施加到衬底上的机器。光刻设备例如可以在集成电路(ic)的制造中使用。光刻设备例如可以将图案形成装置(例如，掩模)处的图案投...
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