技术编号：22253825
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及灯罩技术领域，具体为一种掩模工艺强光灯罩。背景技术掩模是半导体业、集成电路制作时所需的一种模具，可将掩模上的图形经过曝光制程复制于晶圆上。掩模厂根据客户设计的图形，将图形数据转化后，利用掩模曝光机在感光石英基材上进行曝光，经显影、蚀刻制程使其表面产生透光与不透光的极细微的逻辑图形。在掩模显影、湿法蚀刻、去胶、目检，通过增加强光灯罩子可以减少pacticle的掉落，避免产品二次返工，提高产品出货效率。发明内容针对背景技术的不足，本发明提供了一种掩模工艺强光灯罩，解决了上述背景技术提出的问...
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