技术编号：22757285
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。背景技术用于使基板表面平坦化或抛光基板表面的组合物及方法是本领域中所公知的。抛光组合物(也称为抛光浆料)典型地含有位于液体载剂(例如，水性载剂)中的研磨剂材料且通过使基板与饱含抛光组合物的抛光垫接触而施加于表面。典型的研磨剂材料包括硅二氧化物、铈氧化物、铝氧化物、锆氧化物及锡氧化物。抛光组合物典型地与抛光垫(例如，抛光布或抛光盘)结合使用。代替悬浮于抛光组合物中、或者除了悬浮于抛光组合物中以外，研磨剂材料可结合到抛光垫中。作为用于隔离半导体器件的元件的方法，大量注意力集中在浅沟槽隔离(sti)工...
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