技术编号：22794936
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种双面纳米银线薄膜激光刻蚀装置。背景技术在触摸屏、光电、显示屏等技术领域，透明导电膜主要使用的是金属氧化物，如氧化铟锡(ito)材料；然而ito导电膜需要通过真空物理沉积及高温退火工艺制备，所以制备以聚合物薄膜为基底的导电膜时，存在方阻较高的缺点；此外由于ito材料在弯曲和外力影响下容易破碎损坏，所以也较难应用于柔性设备中。目前一种可替代ito薄膜作为透明导电电极材料的产品是纳米银线(snw)导电膜，纳米银线导电膜可以通过涂布的方式制备，从制备工艺上可以不使用昂贵的真空设备，所以...
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