技术编号：23313658
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及集成电路制造光刻设备技术领域，特别是涉及一种具有旋转交换双工件台的光刻装置。背景技术为了提高产能，现有的光刻机一般是采用如同荷兰asml公司的双工件台技术，或者是采用日本nikon公司的串列工件台技术。请参考图1，图1是荷兰asml公司的双工件台光刻机曝光方法示意图。如图1a所示，在光刻机的测量工位和曝光工位上各设有一个工件台，每个工件台上放置一个硅片1、2。每个工件台的四角上设有用于对准等用途的传感器，例如tis传感器等。其中，位于测量工位上的硅片1可通过tis传感器进行坐标对准和调...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。