技术编号:23690157
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种应用于半导体领域的石英罩离子污染的检测工艺。背景技术洗净再生技术是通过化学和物理的工艺把精密部件上的膜质或其他粒子清除掉,再运用物理与化学抛光、喷砂、热喷涂和电镀表面处理的工艺再生处理部件表面,使其达到循环再使用的功能。高效、无污染和对部件损耗很小的洗净再生工艺,能大大地增加parts循环使用寿命,为客户节约成本。半导体领域的部件清洗后的离子污染检测要求也越来越严格,对于石英罩离子污染的检测要求也越来越高,因此一般的检测工艺不能达到使用要求。[...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。