技术编号：23754997
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种追加曝光装置以及图案形成方法，尤其涉及一种对通过对基板上的感光性树脂膜进行曝光及显影所形成的图案进一步进行曝光的追加曝光装置、及基于自感光性树脂膜的图案形成方法。背景技术在制造电子设备时广泛使用光刻术(photolithography)。在光刻术中，通过图案化曝光(使用具有图案的光罩的曝光)及紧随其后的显影，而自涂布在基板上的感光性树脂膜形成图案。尤其在平板显示器的制造中，例如将感光性聚酰亚胺膜或感光性丙烯酸膜用作平坦化膜，所述膜残存在最终所获得的制品中。作...
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