技术编号：2391896
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于在液体中发生等离子体的方法与装置。背景技术 迄今作为采用等离子体的蒸镀技术广泛利用的是气相等离子体的蒸镀技术。例如特开平10-81589号特许公报(公开)中描述了由等离子体CVD法于硅成立方晶系碳化硅表面形成金刚石膜、但是用这类方法难以大量合成蒸镀物质。而为了提高蒸镀速度急速地供给甲烷等原材料物质又很难说不会带来危险。此外，在气相下产生高能等离子体后会出现高温，这样就不能对因热而变弱的基板材料进行蒸镀。另一方面，第四届爱媛大学专题讨论会预印稿...
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