技术编号:2412169
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于深紫外光学技术应用领域,涉及一种具有环境稳定性的深紫外光学薄膜及其制备方法。背景技术近年来,以ArF准分子激光和200nm以下波长自由电子激光为代表的深紫外光学应用获得了长足的发展,其中ArF准分子193nm激光在包括材料精细微加工、深紫外光刻、材料处理、激光打标等在内的激光工业应用,准分子激光医疗,以及科学研究等诸多领域都获得了十分广泛重要的应用,深紫外光学相关技术的研究具有重大的社会和经济价值。深紫外激光光学系统与应用的不断发展对深紫外光学薄...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。