技术编号:24360860
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及晶片边缘抛光设备技术领域,具体为一种晶片边缘抛光机边抛液自动供液和ph自动调整系统。背景技术在使用晶片边缘抛光机时,边抛液储存箱内的边抛液使用一段时间后需要人工打开供液阀门补液,ph值降低后需要人工加入定量的调节剂来调节边抛液的ph值。现在这种人工补液和人工调节ph值的操作的方式非常费时费力,而且容易出错,补液阀忘记关闭,ph调节剂加入过少,ph值未达到允许范围,ph调节剂加入过量,ph值超出允许范围等情况,由于人工操作无法量化,全靠经验值,ph值调节无法稳定,使边缘抛光机抛出的晶片一...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。