技术编号：24436124
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及清洗机技术领域，具体为一种全自动硅片超声波清洗机。背景技术.半导体器件生产中硅片须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效，清洗的目的在于清除表面污染杂质，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面，严重影响少数载流子寿命和表面电导，同时引起严重漏电，硅片表面的灰尘会导致各种缺陷，现需要一种全自动硅片超声波清洗机对硅片表面进行清洗，但是现有的全自动硅片超声波清洗机存在很多问题或缺陷：.传统的全自动硅片超声波清洗机在实际使用中，不能对硅片进行及时的烘干，造成水渍长时间的停留在硅片表面...
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