技术编号:24469413
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及化学气相沉积技术领域,具体而言,涉及一种偶联剂蒸发装置及气相沉积系统。背景技术化学气相沉积技术(chemicalvapourdeposition,cvd)是利用气相中发生的化学过程,在工件表面形成功能性或装饰性的金属、非金属或化合物涂层。气相沉积技术应用于机械和仪表零件、刀具和模具等工件的表面强化,有效改善了工件的服役性能及寿命。相关技术中,偶联剂蒸发位置相对于工件位置的设计,影响偶联剂在工件表面分布的均匀程度,限制了工件质量的提高。实用新型内容有鉴于此,本实用新型实施例的目的在于...
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