技术编号：24520879
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及刻蚀设备的技术领域，尤其是一种原位蒸镀的弱等离子刻蚀设备。背景技术镀膜的应用比较广泛，一般常见的有汽车镀膜以及光学镜片镀膜，而刻蚀的应该也比较广泛，一般常见的有半导体刻蚀以及镜片刻蚀，其刻蚀也是镀膜的基础，有些工艺的镀膜需要先进行刻蚀后再镀膜，目前的镀膜与刻蚀是分开单独的两台操作设备，其刻蚀完之后不易再进行镀膜，而本实用新型主要针对的是刻蚀，且刻蚀的材料主要有sio2、si3n4、多晶硅、硅、sic、gan、gaas、ito、azo、光刻胶、半导体材料、部分金属等，本实用新型中的刻...
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