技术编号：2454112
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种氧化锆真空镀膜，包括中间基层和两层氧化锆层，所述两层氧化锆层分别位于所述中间基层的上下两侧，所述中间基层为氧化硅或氧化钙，所述中间基层上层的所述氧化锆层的厚度大于所述中间基层下层的所述氧化锆层的厚度。本发明的氧化锆真空镀膜耐磨耐腐蚀，透光性好。专利说明一种氧化锆真空镀膜 [0001 ] 本发明涉及一种氧化锆真空镀膜。 背景技术 [0002]真空镀膜是目前得到广泛使用的材料，种类较多。不同的使用条件下需要设计不同成分和理化性能的镀膜...
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