光致抗蚀剂组合物和形成光致抗蚀剂图案的方法与流程技术资料下载

技术编号:25209901

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相关申请的交叉引用本申请要求2019年11月27日提交的美国临时专利申请号62/941,486的优先权,该美国临时专利申请的全部公开内容以引用方式并入本文。背景技术随着消费者设备响应于消费者需求而变得越来越小,这些设备的各个部件的大小也必然减小。构成例如移动电话、计算机平板电脑等设备的主要部件的半导体器件已被迫变得越来越小,对应地也迫使半导体器件内的各个器件(例如,晶体管、电阻器、电容器等)的大小也要减小。在半导体器件的制造过程中使用的一种使能技术是使用光刻材料。将此类材料施加至待图案化的层的表...
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