技术编号:25610724
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明属于微纳米制造技术领域,具体涉及一种利用电场修复硅基晶格缺陷的建模方法。背景技术.在硅基晶格成形的过程中,受材料本身以及加工技术条件的限制,在温度场作用下成形的硅基存在晶格缺陷,晶格缺陷的存在会影响器件的兼容性,进而制约mems器件的性能表现。电场作为一种重要的物理场,通过静电能影响原子扩散迁移,改变系统内部的能量,从而引起微观结构形态的变化。当在物质外部施加电场时,物质内部存在的游离态电子受到电场作用而进行定向运动,在运动过程中与物质内部的原子发生碰撞,实现动量交换。当物质内部原子...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
请注意,此类技术没有源代码,用于学习研究技术思路。