技术编号:25658155
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本发明的实施例涉及处理基板时用于加热基板的单元。另外,本发明的实施例涉及利用这样的单元来处理基板的装置以及方法。背景技术.要制造半导体、平板显示器(flat panel display,fpd)等,需要执行各种工艺。例如,为了处理晶圆(wafer)等基板,可以执行光阻涂布工艺(photoresist coating process)、显影工艺(developing process)、蚀刻工艺(etching process)、灰化工艺(ashing process)等。另外,为了去除在这些...
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