技术编号：25717513
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及溅射机光学成膜治具技术领域，尤其涉及一种溅射镀膜夹具消磁用消磁隔板。背景技术目前在溅射机镀膜8寸窄带产品片时会产生均匀性不良或均匀性范围太小，增大了成本。为了保证溅射机能够在基板上溅射均匀，溅射点子良好，需要治具的底座进行自转来维持镀膜均匀。底座自转时，为了保证夹具不会在自转和大盘公转的同时被甩飞出去而导致镀膜机损坏，底座需要加磁铁来对夹具进行吸附。由于溅射机本身原理就是磁场溅射，所以在底座加了磁铁后会对原本的磁场造成或多或少的破坏，进而对溅射磁场产生影响，从而导致镀膜均匀性不良，...
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