技术编号:25938517
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及真空镀膜技术领域,具体涉及一种用于工程塑料金属化的真空镀膜设备。背景技术真空镀膜设备,主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,mbe分子束外延,pld激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。现有的工程塑料金属化的真空镀膜设备在使用时,镀膜效率慢,不利于提高企业产能。实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种用于工程塑料金属化的真空镀膜设备,可以有效的提高镀膜效率,并且镀膜时不易出现镀膜不均匀的情况,以解决上述背景技术中提出的问...
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