技术编号：26478046
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于微波技术领域，具体地说涉及一种微波等离子体产生装置。背景技术随着ic封装和芯片制造等电子产品制造领域中产品日益多样化，产品的清洗方式也变得越来越大多样化。总体分为干法清洗和湿法清洗两种。湿法清洗一般会以液体作为清洗媒介对待清洗物进行清洗，包括蒸汽清洗、溶液浸泡清洗、旋转清洗等。采用液体一般为水、酸、碱和有机溶剂等，这不仅浪费了大量的洗涤剂还对环境造成了污染，同时还可能对待清洗产品造成伤害。干法清洗包括机械清洗、激光清洗、超声波清洗、干冰清洗以及等离子清洗。机械清理需要施加外力进行摩...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
该类技术注重原理思路，无完整电路图，适合研究学习。