技术编号：26574376
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及低温溅射技术领域，特别是涉及一种用于低温溅射的遮罩。背景技术.传统的金属化薄膜溅射无需考虑溅射温度的问题，在等离子溅射腔体中，往往是需要高温溅射来实现薄膜的流动性和点火的可实施性，对于需要溅射的晶圆本身，温度往往是比较高的，并不会考虑低温溅射的需要，即晶圆本身需要保持在一定的温度下才能进行。.传统的遮罩主要是保护腔体和晶圆本身，将不需要溅射离子的地方遮盖而溅射在其上面。通常会有一个压环压在晶圆上起固定和压紧的作用，压环上也会有离子溅射，而离子溅射会导致压环温度升高，当压环接...
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