技术编号:26722273
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及电磁片技术领域,具体为一种电磁片扩散尾气排放处理装置。背景技术.扩散炉是半导体生产线前工序的重要工艺设备之一,用于大规模集成电路、分立器件、电力电子、光电器件和光导纤维等行业的扩散、氧化、退火、合金及烧结等工艺;.现有的扩散炉电磁片扩散尾气排放处理装置在进行冷却时,往往尾气直通过冷却箱进行冷却,当尾气的流速较快时,会有较多的尾气未经过冷却成废液而直接排出,实用性较差。实用新型内容.本实用新型的目的在于提供一种电磁片扩散尾气排放处理装置,以至少解决现有技术的电磁片扩散尾气排...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。