技术编号：26816381
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本申请涉及一种双重曝光的对位方法。背景技术.目前的显示技术中，对制备工艺的精确度越来越高，光刻是显示技术工艺过程中的必须环节。该环节中通常会结合有多重曝光方式进行曝光，而多重曝光中最重要的则是使得多重曝光的图形重合。目前的彩膜基板，在玻璃基板内侧设置有对位标记，如bm mark，则在玻璃基板两侧形成图案时，通过外部曝光的方式，将内侧设置的bm mark作为曝光机识别的对准点进行曝光，但由于玻璃基板较厚，曝光机的对焦形成小于玻璃基板的厚度，使得较难对焦该内侧的对位标记，导致对准失败。发明内容...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。