技术编号：26832812
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。.本实用新型涉及显影机技术领域，尤其涉及一种光刻胶匀胶显影机用冷水机散热装置。背景技术.在半导体行业中，光刻和显影是两个重要的步骤，显影过程在显影机上完成，显影过程就是将曝光后的光刻胶中与紫外光发生化学反应的部分取出或保留下来的过程，显影的基本过程是：对准曝光(光刻机)→曝光后烘→显影→坚膜→显影检测。.而匀胶显影机需要对曝光后烘干的硅片降温到度左右，因此对胶水的温度要求也相对精准，现有技术中对胶水进行降温散热的方式主要是通过水泵配合散热块进行降温，但是现有的散热块采用的是浇筑铝制作工...
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