技术编号：2683422
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种如权利要求1前序部分限定的用于对准或重叠的掩模图案。此外，本发明涉及一种由这种掩模图案形成的标记结构。此外，本发明涉及一种使用标记结构的光刻投影装置。背景技术本发明发现一种在光刻投影装置领域的应用，该光刻投影装置包括用于提供辐射投射光束的辐射系统，用于支撑构图部件的支撑结构，所述构图部件用于根据所需的图案对投射光束进行构图，用于保持基底的基底台；以及用于将带图案的光束投影到基底的目标部分上的投射系统。术语“构图部件”应广义地解释为能够给入射的...
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