技术编号：2696348
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开一种用于光刻设备的双汞灯拼接曝光系统，包括第一光源与第二光源，用于同时或分别提供照明光束；分别与该第一、第二光源相对应的第一、第二匀光组件；耦合透镜组，用于提高该曝光系统的照明均匀性；照明匀光组件，用于将该耦合透镜组的出射光匀光后照射至一照射面。专利说明用于光刻设备的双汞灯拼接曝光系统[0001 ] 本发明涉及集成电路装备制造领域，尤其涉及一种用于光刻设备的双汞灯拼接曝光系统。背景技术[0002]光刻装置是制造集成电路的主要设备，其作用是使不同的...
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