技术编号：2697026
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种。所述掩膜版的图案区和密封框架之间设置有多个缺陷判定图案，从而在检测过程中，检测单元能够根据缺陷判定图案来自动选择和衡量所需要的点，这样就不需要技术人员手动操作，进而避免了人工操作可能带来的影响，同时采用本发明提供的掩膜版能够节省时间和人力，从而大大的提高工作效率和生产效率。专利说明[0001]本发明涉及集成电路制造领域，特别涉及一种。背景技术[0002]集成电路的生产制造是一个非常复杂的过程，其中，光刻技术是最复杂的技术之一，也是推动集成...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。